自動(dòng)勻膠顯影機是一種用于半導體制造、微電子、納米技術(shù)和光電器件等領(lǐng)域的關(guān)鍵設備。它主要用于在襯底上均勻涂覆光刻膠，并通過(guò)顯影過(guò)程將光刻圖案轉移到襯底上。勻膠和顯影過(guò)程的實(shí)現主要依賴(lài)于以下幾個(gè)步驟：
 

　　1、襯底加載：首先將待處理的襯底放入自動(dòng)勻膠顯影機的載片臺上。載片臺通常具有真空吸附功能，以確保襯底在處理過(guò)程中保持穩定。
 

　　2、勻膠過(guò)程：勻膠過(guò)程主要包括滴膠、旋轉涂布和溶劑蒸發(fā)三個(gè)階段。
 

　　a)滴膠：在襯底中心滴上一定量的光刻膠。光刻膠的粘度、表面張力和滴膠量等參數需要根據襯底尺寸和所需膠層厚度進(jìn)行精確控制。
 

　　b)旋轉涂布：?jiǎn)?dòng)載片臺旋轉，通過(guò)離心力將光刻膠均勻分布在襯底表面。旋轉速度和時(shí)間需要根據光刻膠的性能和所需膠層厚度進(jìn)行調整。
 

　　c)溶劑蒸發(fā)：在旋轉涂布過(guò)程中，部分溶劑會(huì )逐漸蒸發(fā)，使光刻膠變得更加粘稠。通過(guò)控制環(huán)境的濕度和溫度，可以調整溶劑蒸發(fā)速率，從而獲得理想的膠層厚度和均勻性。
 

　　3、前烘過(guò)程：勻膠完成后，需要對襯底進(jìn)行預熱處理，以進(jìn)一步去除光刻膠中的溶劑，提高膠層的附著(zhù)力和穩定性。前烘過(guò)程通常在熱板上進(jìn)行，溫度和時(shí)間需要根據光刻膠的性能進(jìn)行調整。
 

　　4、曝光過(guò)程：將前烘后的襯底送入光刻機進(jìn)行曝光。光刻機通過(guò)投影系統將掩模圖案照射到襯底上的光刻膠層，使曝光區域的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應。
 

　　5、顯影過(guò)程：曝光完成后，將襯底重新放回自動(dòng)勻膠顯影機的顯影模塊。顯影過(guò)程主要包括以下步驟：
 

　　a)噴涂顯影液：將顯影液均勻噴灑在襯底表面，使曝光區域的光刻膠溶解。
 

　　b)浸泡顯影：將襯底浸入顯影液中，通過(guò)控制浸泡時(shí)間和顯影液的濃度、溫度等參數，可以實(shí)現不同對比度和分辨率的圖案顯影。
 

　　c)沖洗和干燥：用去離子水沖洗掉顯影液和溶解的光刻膠，然后通過(guò)旋轉或吹氣的方式將襯底表面的水分去除，得到清晰的光刻圖案。
 

　　通過(guò)以上步驟，自動(dòng)勻膠顯影機實(shí)現了襯底上光刻膠的均勻涂布和圖案的精確顯影，為后續的刻蝕、離子注入等工藝奠定了基礎。